第九五六章 研发极紫外光
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前世虽然nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功f2准分子激光器和浸没式光刻技术，生产成功浸没式光刻机，但半导体产业更新换代迅速，导致nikon光刻机的可靠性能始终落后于asml，从此，全球高端光刻机龙头nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主asml。
前世由于asml独有的euv光源无人能
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